От этой технологии ожидают значительного снижения себестоимости производства монокристаллических кремниевых солнечных панелей при одновременном сохранении эффективности генерирования энергии.
Скорость преобразования кремниевого исходника в тонкую плёнку является сдерживающим фактором в производстве плёнок монокристаллического кремния для солнечных элементов. Химическим осаждением из газовой фазы (CMD) — основной метод ,используемый для эпитаксии — такая плёнка формируется с максимальной скоростью всего несколько микрометров в час.
В лаборатории токийского Университета Васэда, профессор Сугуру Нода (Suguru Noda) поднял температуру кремниевого пара с 1414° (точка плавления) до >2000°. Увеличенное парциальное давление позволило довести скорость кристаллизации плёнки до 10 мкм в минуту.
Плёнка осаждалась на затравочном слое пористого кремния, шероховатость поверхности которого предварительно была уменьшена до 0,2–0,3 нм методом рекристаллизации с зонным нагревом. Это позволило уменьшить количество дефектов в монокристаллической пластине до уровня промышленных кремниевых пластин.
Как указывается в статье, опубликованной по результатам работы в журнале Королевского Химического Общества, CrystEngComm, в принципе этот метод может улучшить выход годного материала на 100%.
Таким образом, от этой технологии ожидают значительного снижения себестоимости производства монокристаллических кремниевых солнечных панелей при одновременном сохранении эффективности генерирования энергии. Также предполагается использовать подобные тонкие плёнки в качестве нижних элементов тандемных солнечных батарей с общим кпд более 30%. опубликовано econet.ru Если у вас возникли вопросы по этой теме, задайте их специалистам и читателям нашего проекта здесь.
P.S. И помните, всего лишь изменяя свое потребление - мы вместе изменяем мир! © econet
Источник: https://econet.ru./
Понравилась статья? Напишите свое мнение в комментариях.
Добавить комментарий